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掺杂气体

* 来源: * 作者: * 发表时间: 2020/03/23 1:39:42 * 浏览: 43
掺杂剂气体:在半导体器件和集成电路的制造中,某些杂质或某些杂质被掺杂到半导体材料中,从而使该材料具有所需的导电类型和一定的电阻率。它用于制作PN结,电阻,掩埋层等。掺杂过程中使用的气体掺杂源称为掺杂气体。它主要包括砷,膦,三氟化磷,五氟化磷,三氟化砷,五氟化砷,三氯化硼和乙硼烷。通常,掺杂源和载气(例如氩气和氮气)在源机柜中混合。混合后,气流连续流入扩散炉并包围晶片。化合物掺杂物沉积在晶片表面上,与硅反应生成掺杂金属迁移到硅中。